http://ir-glass-heat.com/it/tags/elaborazione/ Recent content in Elaborazione on Infrared Glass Heating Technology Hugo it Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/it/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/it/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Riscaldatore per la lavorazione delle celle solari a CIGS"></p> <p>Nella fase di produzione, la variazione termica non è semplicemente un valore teorico da registrare in una tabella di calcolo. Si tratta invece di un fattore fondamentale: essa determina se una cella CIGS funzioni con un’efficienza del 24,5% o se venga considerata rottura e debba essere scartata. Se la variazione termica influisce sul <a href="https://henruite.com">processo</a> di essiccazione, i risultati ottenuti diventano imprevedibili. Inoltre, se l’involucro utilizzato per proteggere la cella non viene trattato correttamente, la affidabilità del prodotto diventa incerta. Abbiamo progettato questi riscaldatori apposta per eliminare queste incertezze.</p> http://ir-glass-heat.com/it/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800 http://ir-glass-heat.com/it/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Riscaldatore per il trattamento di wafer di zaffiro"></p> <p>Sul piano di produzione, quel wafer di zaffiro da 2 pollici è posizionato sotto la linea di litografia, in attesa del Soft Bake. Serve una temperatura di 110°C su tutta la superficie, non solo quella rilevata dal termocoppia. Temperature inferiori causano uno spostamento del profilo del fotoresist; temperature superiori incidono negativamente sul budget termico.</p> <h2 id="cosa-conta-realmente-dal-punto-di-vista-tecnico">Cosa conta realmente, dal punto di vista tecnico</h2> <p>I <a href="https://o-yate.com">riscaldatori</a> impiegati per il trattamento dei wafer di zaffiro sono emettitori a quarzo a infrarossi a onda corta (SWIR). Erogano calore in modo diretto e rapido, con scarsissima inerzia termica. L’uniformità a livello wafer è mantenuta entro ±0,1°C sull’intero chuck, mentre la ripetibilità tra cicli si attesta entro ±0,2°C.<br> La piattaforma è compatibile con cleanroom Class 1–100 e i componenti sono selezionati per evitare la generazione di particelle durante il funzionamento in regime stazionario. Si garantisce affidabilità 24/7 senza fermi non programmati, e i profili di cottura del fotoresist sono sufficientemente ripetibili per assicurare il controllo costante della larghezza delle linee.</p>