Cuocere in Forno on Infrared Glass Heating Technology

Lampada per cottura delicata del fotorestist

Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800

Sul piano di lavorazione in pietra, le piccole variazioni nella temperatura di cottura non si manifestano come problemi evidenti. Si manifestano invece come variazioni nella larghezza delle linee disegnate, come la presenza di solventi all’interno del fotoresist, e come residui che compaiono ore dopo il trattamento. Quello che serve è una lampada in grado di mantenere la temperatura del fotoresist esattamente come richiesto dalla procedura, ciclo dopo ciclo.

Cosa è importante, dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a radiazioni infrarosse vicine al visibile, la cui emissione spettrale è progettata per agire in modo rapido ed equilibrato sul fotoresist. In questo modo non si verifica alcuna differenza di temperatura tra la superficie e il fondo dello strato di fotoresist. L’uniformità della temperatura all’interno della zona di cottura è di ±0,1°C, il che garantisce una viscosità costante e un comportamento omogeneo del rivestimento. Il sistema funziona in modo continuo, senza generare particelle indesiderate; è quindi compatibile con ambienti puliti di classe 1 fino a classe 100. L’intensità della luce rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una variazione inferiore al 5%; inoltre, il profilo termico rimane costante da un lotto all’altro.

Lampada di cottura per spin coater

Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800

Sulla linea di litografia, uno scostamento di mezzo grado nella temperatura di cottura è sufficiente a scartare un intero lotto di wafer. Il soft bake e l’hard bake non sono semplici cicli termici, ma controlli dimensionali. Se la Lampada non mantiene il setpoint su tutto il wafer, l’uniformità del CD si compromette e la resa ne risente.

Abbiamo progettato la lampada per il bake dello spin coater intorno a una lampada alogena al quarzo a infrarossi vicini (NIR). Offre una risposta termica rapida e diretta e un’emissione radiante stabile. Il sistema mira a un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C, e la ripetibilità garantisce una rimozione del solvente costante, ciclo dopo ciclo.

Lampada a infrarossi per cottura poliimmide

Mon, 01 Jun 2026 02:29:58 +0800

Sulla linea, l’orologio non aspetta nessuno. Un wafer da 300 mm passa da coat a soft bake, poi all’esposizione, e il budget termico impostato nei primi minuti detta le regole per l’uniformità del CD, l’angolo della parete laterale e—alla fine—la resa. Quando la lampada di bake inizia a deviare, crea hotspot nel campo o si guasta completamente, la linea si ferma, la coda si accumula e il costo per wafer sale prima ancora che il primo pattern venga scritto.
Il bake della poliimmide si basa su un calore ripetibile. Bisogna far entrare la resina nella finestra corretta di Tg senza esplosioni di solvente, senza formazione di pellicola superficiale e senza aggiunta di particelle. L’infrarosso può garantire questo controllo—veloce e stabile—ma solo se l’emettitore, l’ottica e il ciclo di controllo sono trattati come un unico sistema termico, non come una scatola con un riscaldatore montato sopra.