
Basta sprecare energia inutilmente: c’è un modo migliore per curare le wafer.
Siamo onesti: le fabbriche di semiconduttori rappresentano veri “mostri” dal punto di vista energetico. Se si osserva dove va tutta quell’energia, si nota che una grande parte viene semplicemente sprecata in calore.
Per anni si è utilizzato soltanto il metodo dei forni a convezione. Ma ecco il problema: bisogna spendere un sacco di denaro per riscaldare l’intera stanza – l’aria, le pareti, tutto – solo per portare la wafer alla temperatura desiderata. È un metodo inefficiente.
Ecco perché abbiamo optato per le lampade a radiazioni infrarosse. Invece di riscaldare l’ambiente, queste lampade inviano l’energia direttamente sul substrato. È un approccio molto più efficiente.
Perché la fisica è importante
Utilizziamo onde infrarosse a breve e media lunghezza, perché funzionano in modo preciso. Queste onde riescono a penetrare nei strati di fotorest e adesivi molto più velocemente rispetto all’aria calda.
Pensate alla differenza di tempo: invece di aspettare ore affinché il forno si riscaldi, ora basta pochi secondi. Questo significa una notevole riduzione dei consumi energetici per ogni wafer. Le nostre lampade hanno una elevata densità di potenza, quindi è possibile raggiungere rapidamente la temperatura necessaria per la cura delle wafer.
Come integrarle nella vostra fabbrica
La cosa migliore? Questo sistema permette di ridurre significativamente l’impatto ambientale. Non è più necessario lottare contro le perdite di calore legate al riscaldamento della stanza.
Progettiamo questi sistemi in modo semplice: nella maggior parte dei casi, possono essere sostituite direttamente agli elementi di riscaldamento esistenti, senza dover modificare l’intera struttura della fabbrica.
Un avvertimento importante
Attenzione all’alimentazione elettrica: le lampade a radiazioni infrarosse richiedono molta corrente. Se i vostri impianti elettrici non sono in grado di gestire questo carico iniziale, potreste dover interrompere continuamente il funzionamento delle lampade.
La realtà
Le lampade a radiazioni infrarosse non sono una soluzione magica: hanno i loro limiti. A causa dell’intensità del calore, possono crearsi “punti caldi” se le lampade non sono posizionate correttamente rispetto alle wafer. Bisogna quindi prestare attenzione all’angolazione e alla distanza tra le lampade e le wafer.
Per evitare problemi, consigliamo di utilizzare sistemi di controllo basati su pirometri a circuito chiuso. In questo modo si evita di surriscaldare le wafer e di rovinarle. Inoltre, non bisogna far funzionare le lampade continuamente al 100%. Senza un adeguato sistema di raffreddamento, i filamenti si bruciano troppo rapidamente. Bisogna trovare il giusto equilibrio tra la velocità di cura delle wafer e le capacità del proprio hardware.