<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Putar on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/id/tags/putar/</link>
		<description>Recent content in Putar on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/id/tags/putar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanggang spin coater</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/id/posts/spin-coater-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/id/posts/spin-coater-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanggang spin coater&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada lantai litografi, pergeseran suhu bake sebesar setengah derajat sudah cukup untuk membuang seluruh lot wafer. Soft bake dan hard bake bukan sekadar siklus pemanasan — keduanya merupakan kontrol dimensi. Jika &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Lampu&lt;/a&gt; &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;tidak&lt;/a&gt; dapat mempertahankan setpoint di seluruh wafer, uniformitas CD akan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;runtuh&lt;/a&gt;, dan hasil produksi ikut menurun.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami merancang lampu bake spin coater menggunakan halogen kuarsa near-infrared (NIR). Lampu ini memberikan respons termal yang cepat, langsung, dan output radiasi yang stabil. Sistem ini menargetkan uniformitas pada level wafer dalam rentang ±0,1°C, dan pengulangan siklus menjaga konsistensi penghilangan pelarut, dari satu siklus ke siklus berikutnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
