http://ir-glass-heat.com/id/tags/pengeringan/ Recent content in Pengeringan on Infrared Glass Heating Technology Hugo id Fri, 24 Jul 2026 12:00:39 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/reducing-carbon-footprint-in-semiconductor-fab-drying-via-ir-heating-systems/ Fri, 24 Jul 2026 12:00:39 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/reducing-carbon-footprint-in-semiconductor-fab-drying-via-ir-heating-systems/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik"></p> <p><strong>Mengurangi Emisi Karbon di Pabrik: Mengapa Penggunaan Lampu Infra Merah Adalah Solusi yang Tepat</strong><br> Sejujurnya, banyak <a href="https://o-yate.net">pabrik</a> masih menggunakan oven konvensional atau pemanas lama untuk mengeringkan wafer. Itulah cara yang selama ini digunakan. Namun masalahnya adalah sistem-sistem tersebut sangat boros energi. Mereka membutuhkan waktu yang lama untuk menghangatkan seluruh udara di dalam ruangan hanya untuk mengeringkan beberapa wafer saja. Itu merupakan pemborosan energi yang nyata.</p> <p>Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Dengan mengganti pemanas konvensional tersebut dengan lampu infra merah, kita dapat mengurangi penggunaan energi dan sekaligus mengurangi dampak negatif terhadap lingkungan akibat proses pengeringan wafer.</p> http://ir-glass-heat.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS"></p> <p>Lihatlah bagaimana wafer tersebut keluar dari stasiun pembersihan. Tidak boleh ada bekas air pada permukaan wafer tersebut. Photoresist tidak boleh terkena pengaruh suhu yang ekstrem. Jika alat pengering tidak mampu mencapai suhu yang tepat, kualitas produk akan menurun—artinya perlu dilakukan proses perbaikan lagi, dan sebagian produk harus dibuang.</p> <p><strong>Secara teknis, apa yang ada di baliknya?</strong> Kami merancang pemanas untuk wafer sensor MEMS ini dengan menggunakan elemen pemanas yang responsif dan cocok digunakan di ruang bersih, serta desain termal berbasis kuarsa. Hal ini memungkinkan suhu di seluruh permukaan wafer tetap konstan, dalam rentang ±0,1°C. Dengan demikian, proses pembakaran wafer dapat berjalan sesuai resep yang ditentukan.</p> http://ir-glass-heat.com/id/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Modul pengeringan photoresist menggunakan inframerah"></p> <p>Di lantai litografi, penyimpangan suhu sebesar setengah derajat selama proses pengeringan fotoresist bukanlah hal yang masih bisa diterima. Hal tersebut berarti wafer tersebut <a href="https://o-yate.com">harus</a> dibuang. Proses pengeringan fotoresist sangat bergantung pada kontrol suhu yang tepat; modul inframerah merupakan faktor kunci yang <a href="https://henruite.com">menentukan</a> apakah produksi akan berhasil atau gagal.</p> <p><strong>Apa yang benar-benar penting dalam proses ini?</strong> Kami menggunakan modul pengeringan fotoresist berbasis inframerah yang mampu menjaga keseragaman suhu di tingkat wafer hingga ±0,1°C. Modul ini juga memastikan bahwa profil suhu tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya. Pemilihan jenis emitor dilakukan dengan cermat: inframerah dekat, karena memberikan respons yang cepat serta kontrol spektral yang baik. Dengan demikian, gangguan suhu dapat dihindari. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100, dan dirancang agar tidak menghasilkan partikel sama sekali, sesuai dengan hasil pemantauan partikel secara langsung. Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa henti, dan waktu servisnya disesuaikan dengan proses pergantian produksi.</p>