http://ir-glass-heat.com/id/tags/memproses/ Recent content in Memproses on Infrared Glass Heating Technology Hugo id Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk proses pembuatan sel surya CIGS"></p> <p>Di pabrik pengolahan CIGS, variasi suhu bukanlah angka akademis yang hanya dicatat dalam spreadsheet. Variasi suhu tersebut merupakan faktor penentu <a href="https://goldisgood.com">antara</a> sel CIGS yang memiliki efisiensi 24,5% dan hasil produksi yang tidak memadai. Jika perubahan suhu terjadi selama proses pemanasan, maka lebar garis-garis pada permukaan sel akan berubah. Jika proses pengeringan lapisan pelindung tidak dilakukan dengan baik, maka keandalan produk pun akan terganggu. Kami merancang pemanas ini agar dapat menghilangkan ketidakpastian tersebut.</p> <p><strong>Yang penting adalah keseragaman suhu</strong><br> Keseragaman suhu di area aktif wafer mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetitivitas pengaturan suhu mencapai ±0,2°C. Elemen inframerah berfrekuensi rendah digunakan untuk memberikan panas secara cepat dan efektif, sementara zona panas yang terisolasi oleh kuarsa membantu menjaga jumlah partikel tetap stabil. Pemanas ini cocok digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100, dapat beroperasi 24/7, dan belum pernah mengalami downtime yang tidak terduga, bahkan setelah beroperasi lebih dari 10.000 jam. Profil pemanasan dirancang sedemikian rupa sehingga sesuai dengan batasan termal yang diperlukan oleh sel CIGS, sehingga proses pemanasan fotoresist dan lapisan pelindung dapat berjalan dengan optimal.</p> http://ir-glass-heat.com/id/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800 http://ir-glass-heat.com/id/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Pemanas pemrosesan wafer safir"></p> <p>Di lantai fab, wafer safir 2 inci itu terpasang di bawah track litografi, menunggu Soft Bake. Anda membutuhkan 110°C di seluruh permukaan, bukan hanya yang terbaca di termokopel. Jika lebih rendah, profil fotoresist akan bergeser. Jika lebih tinggi, Anda akan membakar anggaran termal Anda.</p> <h2 id="apa-yang-sebenarnya-penting-secara-teknis">Apa yang sebenarnya penting, secara teknis</h2> <p>Pemanas yang kami gunakan untuk pemrosesan wafer safir adalah emitter kuarsa inframerah gelombang pendek (SWIR). Mereka mengalirkan panas secara langsung dan cepat, dengan inersia termal yang sangat kecil. Keseragaman tingkat wafer terjaga pada ±0,1°C di seluruh chuck, dan repeatabilitas antar shift tetap dalam ±0,2°C.<br> Platform ini kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100, dan komponen dipilih agar generasi partikel tetap nol selama operasi stabil. Anda mendapatkan keandalan 24/7 tanpa downtime tak terduga, dan profil pemanggangan fotoresist cukup konsisten untuk menjaga pengendalian lebar garis.</p>