Fotorezist on Infrared Glass Heating Technology

Lampu pengeringan fotoresist jenis soft bake

Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800

Pada lantai litografi, fluktuasi suhu pengeringan yang ringan tidak menyebabkan kegagalan yang signifikan. Fluktuasi tersebut ditandai dengan perubahan lebar garis yang dihasilkan, adanya pelarut yang masih tersisa di dalam bahan resisten, serta limbah yang muncul beberapa jam setelah proses selesai. Yang diperlukan adalah lampu yang mampu menjaga suhu bahan resisten sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan, dari siklus ke siklus.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan sumber cahaya inframerah dekat (NIR) dengan spektrum cahaya yang dirancang untuk memanaskan bahan resisten secara cepat dan merata, sehingga tidak terjadi perbedaan suhu antara permukaan dan bagian bawah lapisan film. Tingkat keseragaman suhu di seluruh area pengeringan mencapai ±0,1°C, yang berdampak pada viskositas bahan resisten yang konsisten dan perilaku pelapisan yang stabil. Sistem ini dapat beroperasi secara kontinu tanpa menghasilkan partikel apa pun—cocok digunakan di ruang bersih kelas 1 hingga kelas 100. Intensitas cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan fluktuasi kurang dari 5%. Profil termal juga tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.

Modul pengeringan photoresist menggunakan inframerah

Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800

Di lantai litografi, penyimpangan suhu sebesar setengah derajat selama proses pengeringan fotoresist bukanlah hal yang masih bisa diterima. Hal tersebut berarti wafer tersebut harus dibuang. Proses pengeringan fotoresist sangat bergantung pada kontrol suhu yang tepat; modul inframerah merupakan faktor kunci yang menentukan apakah produksi akan berhasil atau gagal.

Apa yang benar-benar penting dalam proses ini? Kami menggunakan modul pengeringan fotoresist berbasis inframerah yang mampu menjaga keseragaman suhu di tingkat wafer hingga ±0,1°C. Modul ini juga memastikan bahwa profil suhu tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya. Pemilihan jenis emitor dilakukan dengan cermat: inframerah dekat, karena memberikan respons yang cepat serta kontrol spektral yang baik. Dengan demikian, gangguan suhu dapat dihindari. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100, dan dirancang agar tidak menghasilkan partikel sama sekali, sesuai dengan hasil pemantauan partikel secara langsung. Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa henti, dan waktu servisnya disesuaikan dengan proses pergantian produksi.