Di lantai produksi, kelembapan yang tertinggal setelah proses pembersihan bukanlah masalah sepele. Kelembapan tersebut akan meresap ke dalam lapisan photoresist selama proses pembakaran, sehingga mengubah dimensi-dimensi penting dari permukaan wafer. Hal ini berdampak pada penurunan kualitas wafer yang dihasilkan. Lampu penghilang kelembapan pada wafer dapat mengatasi masalah ini dengan menghilangkan kelembapan di permukaan wafer sebelum lapisan photoresist terganggu.
Hal-hal penting yang perlu diperhatikan
Lampu ini dibuat menggunakan emiter halogen berfrekuensi tinggi yang berada di dalam selubung kuarsa. Tujuannya adalah untuk memanaskan permukaan wafer secara cepat, dengan massa panas yang minimal. Dengan demikian, responsnya sangat cepat, yaitu dalam hitungan sub-saat, dan tingkat keseragaman suhu di permukaan wafer tetap stabil, dalam rentang ±0,1°C. Profil sinar lampu disesuaikan sesuai dengan diameter wafer dan kecepatan pemindaian, sehingga suhu permukaan wafer tetap terkendali dan kimia lapisan photoresist tetap utuh. Lampu ini juga kompatibel dengan kondisi ruang bersih kelas 1–100; bagian-bagiannya dirancang sedemikian rupa sehingga tidak ada partikel yang dihasilkan selama pengoperasian.
Mengapa lampu ini cocok digunakan dalam proses produksi
Wafer diproses melalui proses spin-rinse dan langsung dimasukkan ke alat pelapis. Jika kelembapan tidak segera dihilangkan, air yang tersisa akan mengencerkan lapisan photoresist. Hal ini akan berdampak pada munculnya bintik-bintik di tepi wafer, serta perubahan dimensi wafer setelah proses eksposur dan pembakaran. Dengan menggunakan lampu ini, kelembapan dapat dihilangkan tanpa membuat substrat menjadi terlalu panas, sehingga proses pembakaran tetap berjalan sesuai rencana. Hasilnya adalah proses pembakaran yang konsisten, dan lapisan photoresist yang memiliki kualitas yang baik.
Kepandalan lampu ini
Kepandalan lampu ini ditentukan oleh waktu operasinya yang berkelanjutan, yaitu 24/7, tanpa adanya gangguan tak terduga. Setelah 5.000 jam operasi, penyimpangan hasil produksi tetap di bawah 5%.
Detail teknis
Lampu ini dapat dipasang pada sistem yang sudah ada, dengan antarmuka mekanis dan listrik yang standar. Namun, toleransi penyesuaian posisi lampu harus sangat ketat. Pastikan posisi sinar lampu benar, dan pastikan sinkronisasi proses pemindaian sesuai dengan kontroler alat pelapis. Waktu pemanasan lampu hingga mencapai kestabilan suhu cukup singkat. Intensitas sinar lampu juga perlu dikalibrasi secara berkala. Di ruangan dengan kelembapan tinggi, pastikan sistem penghisap udara bekerja dengan baik, agar tidak terjadi proses kondensasi lagi setelah proses perlakuan selesai.