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		<title>MEMS on Infrared Glass Heating Technology</title>
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				<title>Chauffage de séchage des wafers de capteurs MEMS</title>
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				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:39 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Chauffage de séchage des wafers de capteurs MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Voyez comment une puce quitte la station de rinçage. Aucune trace d’eau n’est autorisée. Le photo-résiste ne doit pas être soumis à des variations de température inattendues. Si le séchoir ne parvient pas à atteindre la température souhaitée, la qualité du produit diminue : il faudra refaire le travail, ou jeter toute la série de produits fabriqués.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Qu’y a-t-il en termes techniques ?&lt;/strong&gt;&#xA;Nous avons conçu le chauffage pour les puces MEMS en utilisant des éléments chauffants à réponse rapide, compatibles avec les environnements propres, ainsi qu’un système de chauffage basé sur du quartz. Cela permet de maintenir une uniformité de température de ±0,1°C dans toute la zone active de la puce, ce qui assure que les processus de séchage se déroulent conformément aux spécifications prévues.&lt;/p&gt;</description>
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