Lampe de suppression de l humidité des wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Sur le site de fabrication, l’humidité restée après le nettoyage n’est pas simplement un problème gênant. Elle pénètre dans le photorésiste pendant le processus de cuisson, ce qui affecte les dimensions critiques des composants et entraîne une baisse de la qualité des produits finis. La lampe de séchage des wafer permet de résoudre ce problème en éliminant l’humidité de surface avant que la couche de photorésiste ne soit endommagée.

Ce qui est important Nous avons conçu cette lampe avec des émetteurs halogènes à courte longueur d’onde, placés dans un revêtement en quartz. L’objectif est d’obtenir un chauffage rapide et localisé de la surface, avec une masse thermique minimale. On obtient ainsi une réponse en quelques millisecondes, ainsi qu’une uniformité de température sur toute la surface du wafer, avec une marge d’erreur de ±0,1 °C. Le profil du faisceau est adapté au diamètre du wafer et à la vitesse de balayage, ce qui permet de maintenir un contrôle précis de la température et de préserver l’intégrité chimique du photorésiste. La compatibilité avec les environnements propres est assurée : matériaux conformes aux normes Classe 1–100, boîtier hermétique, et absence totale de particules générées pendant le fonctionnement continu.

Humidité on Infrared Glass Heating Technology

Lampe de suppression de l humidité des wafer