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		<title>Enrobeuse on Infrared Glass Heating Technology</title>
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		<description>Recent content in Enrobeuse on Infrared Glass Heating Technology</description>
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				<title>Lampe de cuisson pour spin coater</title>
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				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson pour spin coater&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la zone de lithographie, une dérive de température de cuisson de seulement un demi-degré suffit à condamner un lot entier de wafers. Les &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;phases&lt;/a&gt; de soft bake et hard bake ne sont pas seulement des cycles thermiques — ce sont des contrôles dimensionnels. Si la lampe ne maintient pas le &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;point&lt;/a&gt; de consigne sur l’ensemble du wafer, la uniformité du CD se dégrade, tout comme le rendement.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nous avons conçu la lampe de cuisson du spin coater autour d’un halogène au quartz proche infrarouge (NIR). Elle offre une réponse thermique rapide et directe ainsi qu’une émission rayonnante stable. Le système vise une uniformité au niveau du wafer dans ±0,1°C, et la répétabilité assure une élimination constante du solvant, lot après lot.&lt;/p&gt;</description>
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