Chauffage de support pour décapage de photorésist

Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800

Sur l’étage lithographie, une panne du support chauffant pendant le déstrippage de photoresist arrête la ligne net. Les wafers s’accumulent avec des résidus, le taux de rebut augmente, et le planificateur se retrouve soudainement dans une impasse. Il faut simplement un contrôle thermique qui ne vous fasse pas transpirer.
Ce qui compte, techniquement
Nos supports chauffants pour déstrippage de photoresist maintiennent une uniformité de température au niveau wafer dans ±0,1°C sur la zone active, et assurent une stabilité du point de consigne tout au long de la séquence de cuisson et de stripping. Des éléments en quartz et des chemins contrôlés à infrarouge courte longueur d’onde chauffent uniquement la cible, évitant ainsi toute dissipation thermique vers les fixations de la chambre.
L’ensemble est conçu pour salle blanche Classe 1–100, utilisant des matériaux à faible dégazage et une finition de surface limitant la génération de particules. En opérations multi-équipe, la fiabilité 24/7 est assurée sans arrêt imprévu, avec des profils de température reproductibles garantissant le respect des dimensions critiques.
Pourquoi cela tient en conditions réelles de process
La performance de stripping dépend entièrement d’un budget thermique constant. Stabiliser la température du support permet aux solvants et chimies plasma de stripping d’agir uniformément, réduisant ainsi les résidus et défauts post-strip.
Les cuissons soft bake et hard bake sont également plus précises. Cela améliore le contrôle de la largeur de ligne et diminue les retouches. Le résultat est un meilleur rendement au premier passage, moins d’écarts, et une consommation énergétique réduite grâce à une montée en température plus rapide et une moindre surchauffe.
Ce dont il faut tenir compte dans la planification
Le chauffage s’intègre dans les chambres de stripping et plateaux supports existants, mais l’interface doit correspondre précisément aux points d’ancrage mécaniques et thermiques. Prévoyez une courte phase de mise en service pour régler le PID et valider le profil par rapport à votre empilement de résist.
La durée de vie opérationnelle dépend de l’atmosphère et du cycle de travail. En cas d’utilisation à haute puissance, planifiez une inspection périodique des quartz pour maintenir l’uniformité attendue.

Dénudage on Infrared Glass Heating Technology

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