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		<title>Cuire Au Four on Infrared Glass Heating Technology</title>
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		<description>Recent content in Cuire Au Four on Infrared Glass Heating Technology</description>
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				<title>Lampe de cuisson douce pour photo résist</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/fr/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson douce pour photo résist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le sol en lithographe, les variations de température pendant le &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;processus&lt;/a&gt; de cuisson ne se manifestent pas comme des défauts évidents. Elles se traduisent plutôt par des variations de l’épaisseur des lignes tracées, par la présence de solvants dans le réactif utilisé, ainsi que par des déchets qui apparaissent des heures plus tard. Ce dont on a besoin, c’est d’une lampe capable de maintenir la température du réactif exactement à celle préconisée par la recette de traitement, cycle après cycle.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Lampe de cuisson pour spin coater</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/fr/posts/spin-coater-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson pour spin coater&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la zone de lithographie, une dérive de température de cuisson de seulement un demi-degré suffit à condamner un lot entier de wafers. Les &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;phases&lt;/a&gt; de soft bake et hard bake ne sont pas seulement des cycles thermiques — ce sont des contrôles dimensionnels. Si la lampe ne maintient pas le &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;point&lt;/a&gt; de consigne sur l’ensemble du wafer, la uniformité du CD se dégrade, tout comme le rendement.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nous avons conçu la lampe de cuisson du spin coater autour d’un halogène au quartz proche infrarouge (NIR). Elle offre une réponse thermique rapide et directe ainsi qu’une émission rayonnante stable. Le système vise une uniformité au niveau du wafer dans ±0,1°C, et la répétabilité assure une élimination constante du solvant, lot après lot.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Lampe infrarouge de cuisson en polyimide</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/fr/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 02:29:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampe infrarouge de cuisson en polyimide&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne, l’horloge n’attend personne. Une plaquette de 300 mm passe de l’étape de dépôt à celle de cuisson douce, puis à l’exposition, et le budget thermique que vous définissez dans ces premières minutes fixe les règles pour l’uniformité de la CD, l’angle des parois latérales et, en fin de compte, le rendement. Lorsque la lampe de cuisson commence à dériver, génère des points chauds dans le champ ou tombe en panne, la ligne s’arrête, la file d’attente s’allonge et votre coût par plaquette augmente avant même que le premier motif ne soit écrit.&lt;br&gt;&#xA;La cuisson du polyimide revient à fournir une chaleur répétable. Il faut amener la résine dans la bonne fenêtre de Tg sans explosion de solvant, sans formation de peau et sans ajout de particules. L’infrarouge peut offrir ce contrôle — rapide et stable — mais seulement si l’émetteur, l’optique et la boucle de contrôle sont considérés comme un système thermique unique, et non comme un simple boîtier avec un élément chauffant fixé dessus.&lt;/p&gt;</description>
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