Arrêtez de gaspiller de la chaleur dans vos chambres de traitement des wafers
Le problème avec la plupart des lampes infrarouges, c’est qu’elles émettent de la chaleur dans toutes les directions. Lorsque vous chauffez un wafer à semi-conducteurs, vous voulez que cette énergie atteigne directement le substrat. Vous ne voulez certainement pas que cette chaleur se propage dans les parois intérieures de la machine, qui coûte une fortune.
Lorsque l’équipement fonctionne comme un énorme radiateur, les choses deviennent complexes. Vous gaspillez de l’électricité, et le cadre de la machine commence à se dilater à cause de la chaleur. C’est un vrai problème inutile.
Comment fonctionne le chauffage directionnel
Pour résoudre ce problème, on remplace les tubes en quartz par des systèmes d’émission infrarouge directionnels. On peut imaginer ça comme l’ajout d’un réflecteur ou d’un revêtement spécial à l’arrière de la lampe. Ainsi, au lieu d’une émission de chaleur à 360 degrés, la chaleur est dirigée vers l’avant. Le faisceau de chaleur devient ainsi plus concentré. La chaleur affecte donc uniquement le wafer, tandis que l’arrière de la lampe reste frais. Les parois de la chambre ne sont plus endommagées par la chaleur. C’est simple, non ?
Protéger votre équipe et vos équipements
Maintenir la température basse dans la chambre de traitement n’est pas seulement une question d’économies d’énergie. C’est aussi important pour protéger les personnes qui travaillent sur les machines. Lorsque les parois intérieures ne sont pas trop chaudes, vos techniciens ne risquent pas de se brûler lors des opérations de remplacement ou de maintenance. Cela rend tout le processus beaucoup plus sûr.
Mais attention : il faut bien choisir les sources d’alimentation adaptées. Ces émetteurs à haute densité consomment beaucoup de courant. Si vous essayez de chauffer rapidement un wafer de 300 mm, assurez-vous que vos systèmes de refroidissement peuvent gérer cette charge. Les parois peuvent être fraîches, mais le wafer subit une forte chaleur.
Les compromis à accepter
Il y a tout de même un inconvénient : comme la chaleur est très concentrée, on perd cette lumière « douce » proprie des lampes standard. Cela signifie que la réglage du PID doit être parfait. Si le wafer n’est pas positionné avec précision, on observera des fluctuations de température sur sa surface. Il s’agit donc d’un compromis entre une chaleur plus diffuse et une précision maximale. Pour la plupart des gens, c’est un compromis valable.