Hornear on Infrared Glass Heating Technology

Lámpara de horneado suave para fotoresist

Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800

En el suelo de litografía, las pequeñas fluctuaciones en la temperatura de secado no se manifiestan como fallos graves. En cambio, se manifiestan como variaciones en el ancho de las líneas, presencia de disolventes en el fotoretardo y residuos que aparecen horas después del proceso. Lo que se necesita es una lámpara capaz de mantener la temperatura del fotoretardo exactamente donde lo exige la receta de proceso, ciclo tras ciclo.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico
Utilizamos emisores de luz infrarroja cercana (NIR), cuya salida espectral está diseñada para calentar uniformemente el fotoretardo, evitando así diferencias de temperatura entre la superficie y el fondo de la capa fotográfica. La uniformidad a nivel de wafer es de ±0,1°C en toda la zona de secado, lo que se traduce en una viscosidad reproducible y un comportamiento consistente de la capa aplicada. El sistema funciona continuamente, sin generar partículas, y es compatible con salas limpias de clase 1 a 100. La intensidad de la luz permanece estable durante más de 5,000 horas, con una desviación inferior al 5%. Además, el perfil térmico se mantiene constante de lote en lote.

Lámpara de horneado para recubridor por centrifugado

Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800

En la sala de litografía, una deriva de medio grado en la temperatura de horneado es suficiente para desechar un lote completo de obleas. El horneado suave y el horneado duro no son solo ciclos térmicos, sino controles dimensionales. Si la lámpara no puede mantener el punto de consigna en toda la oblea, la uniformidad del CD se deteriora y el rendimiento se pierde.

Construimos la lámpara de horneado del spin coater alrededor de un halógeno de cuarzo en el infrarrojo cercano (NIR). Ofrece una respuesta térmica rápida y directa, además de una salida radiante estable. El sistema apunta a una uniformidad a nivel de oblea dentro de ±0,1°C, y la repetibilidad mantiene constante la eliminación de solventes, corrida tras corrida.

Lámpara infrarroja de horneado de poliamida

Mon, 01 Jun 2026 02:29:58 +0800

En la línea, el reloj no espera a nadie. Una oblea de 300 mm pasa de la etapa de recubrimiento al horneado suave, luego a la exposición, y el presupuesto térmico que establezcas en esos primeros minutos define las reglas para la uniformidad de la dimensión crítica (CD), el ángulo de la pared lateral y—en última instancia—el rendimiento. Cuando la lámpara de horneado comienza a desviarse, genera puntos calientes en el campo o falla por completo, la línea se detiene, la cola se acumula y el costo por oblea aumenta antes de que se haya escrito el primer patrón.