http://ir-glass-heat.com/es/tags/fotoresisto/ Recent content in Fotoresisto on Infrared Glass Heating Technology Hugo es Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/es/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/es/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lámpara de horneado suave para fotoresist"></p> <p>En el suelo de litografía, las pequeñas fluctuaciones en la temperatura de secado no se manifiestan como fallos graves. En cambio, se manifiestan como variaciones en el ancho de las líneas, presencia de disolventes en el fotoretardo y residuos que aparecen horas después del proceso. Lo que se necesita es una lámpara capaz de mantener la temperatura del fotoretardo exactamente donde lo exige la receta de proceso, ciclo tras ciclo.</p> <p><strong>Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico</strong><br> Utilizamos emisores de luz infrarroja cercana (NIR), cuya salida espectral está diseñada para calentar uniformemente el fotoretardo, <a href="https://o-yate.net">evitando</a> así diferencias de temperatura entre la superficie y el fondo de la capa fotográfica. La uniformidad a nivel de wafer es de ±0,1°C en toda la zona de secado, lo que se traduce en una viscosidad reproducible y un comportamiento consistente de la capa aplicada. El sistema funciona continuamente, sin generar partículas, y es compatible con salas limpias de clase 1 a 100. La intensidad de la luz permanece estable durante más de 5,000 horas, con una desviación inferior al 5%. Además, el perfil térmico se mantiene constante de lote en lote.</p>