Wafer on Infrared Glass Heating Technology

Präziser IR Sensor für Wafern

Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800

Hören Sie auf, Energie in den Schächten der Wafer zu verschwenden
Das Problem bei den meisten Infrarotlampen ist, dass sie Wärme in alle Richtungen abgeben. Wenn man einen Halbleiterwafer erwärmt, möchte man, dass die Energie direkt auf das Substrat trifft. Man möchte auf keinen Fall, dass die Energie in die Innenwände der Maschine eindringt – schließlich kostet diese Maschine ein Vermögen.

Wenn die Ausrüstung wie ein riesiger Wärmeableiter funktioniert, wird die Situation unübersichtlich. Man verschwendet Energie, und der Rahmen der Maschine dehnt sich aufgrund der Hitze aus. Das ist ein Problem, das man wirklich vermeiden sollte.

Energieeffizienter Waferheizer

Mon, 27 Jul 2026 06:32:18 +0800

Warum wir uns so sehr auf die Prüfung der Isolierung von Waferheizern konzentrieren
Wir bauen Waferheizer, die äußerst effizient sein müssen – und dabei gleichzeitig bestimmte strenge thermische Anforderungen erfüllen müssen. Das Problem ist: Wenn man hohe Leistungen in einen winzigen Raum packt, bleibt kaum Raum für Fehler. Schon ein kleiner Defekt in der Isolierung kann dazu führen, dass das Gerät versagt oder das Substrat beschädigt wird.

Deshalb glauben wir nicht an „Zufallskontrollen“. Jeder Heizelement, der unser Werk verlässt, durchläuft eine vollständige Prüfung der Spannungsfestigkeit sowie der Isolierwiderstande. Es gibt keine Ausnahmen.

Reflektor für Wafern Aushärtungslampe

Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800

Warum wir auf heiße Luft zugunsten von Infrarotreflektoren bei der Aushärtung von Wafern ausweichen
Wenn Sie bereits Erfahrung im Halbleiterverarbeitungsprozess haben, kennen Sie sicherlich die Probleme mit der Verwendung von heißer Luft zur Erwärmung der Wafer. Der Prozess ist extrem langsam – man heizt im Grunde genommen einen ganzen Raum voller Luft auf, nur um etwas Wärme an eine winzige Wafer zu übertragen. Das ist wie versuchen, ein Haus zu erwärmen, indem man zunächst die Zufahrtstraße heizt.

Temperatursensor für Wafer Werkzeug

Thu, 09 Jul 2026 04:08:36 +0800

Jeder Watt Energie muss bei der Waferverarbeitung effektiv genutzt werden. Die alte Methode – die Verwendung herkömmlicher Temperatursonden – führt dazu, dass viel Wärme in die Luft entweicht. Das ist Verschwendung. Deshalb haben wir etwas anderes entwickelt: eine Temperatursonde, die mit Gold überzogen ist und dazu dient, die Wärme wieder dorthin zu leiten, wo sie hingehört.

Das Prinzip ist einfach: So viele nutzbare Wärmeenergien wie möglich auf den Wafer bringen, anstatt sie verloren zu gehen.

Die Kraft hinter der Wärme
Diese Sonde überwacht nicht nur die Temperatur, sondern beeinflusst sie auch aktiv. Sie verwandelt die zugeführte elektrische Energie in gezielte Wärmeenergien. Dadurch bleibt das thermische Profil stabil – der Wafer erhält genau dann die benötigte Energiedichte, wenn er sie braucht.

Heizgerät zur Trocknung von MEMS Sensor Wafern

Mon, 29 Jun 2026 07:07:39 +0800

Beobachten Sie, wie eine Waferplatte von der Spülstation herauskommt. Es dürfen keine Wasserflecken vorhanden sein. Der Fotolack kann keinen Temperatursprüngen standhalten. Wenn die Trocknungsanlage nicht die richtige Temperatur erreichen kann, sinkt die Qualität der Wafer – es muss erneut nachgearbeitet werden, und weitere Chargen müssen als unbrauchbar entsorgt werden.

Was steckt technisch dahinter? Wir haben den Heizer für die Trocknung der MEMS-Sensorwafer mit schnell reagierenden, für Reinräume geeigneten Heizelementen sowie einem auf Quarz basierenden Wärmemanagement-System konstruiert. Dadurch bleibt die Temperatur in der aktiven Zone bei ±0,1°C konstant – somit können die Trocknungsprozesse genau nach Vorgabe ablaufen.

Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit aus Wafern

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Auf der Fertigungsbühne ist die Feuchtigkeit, die nach dem Reinigen zurückbleibt, kein bloßes Ärgernis. Sie dringt während des Weichbrennvorgangs in den Fotoleiter ein, verändert dabei die wichtigen Abmessungen und führt somit zu sinkender Produktivität. Die Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit auf den Wafern bekämpft dieses Problem direkt – sie entfernt die Oberflächenfeuchtigkeit, bevor der Fotoleiter beeinträchtigt wird.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben diese Lampe mit kurzwelligen Halogenemittern in einer Quarzkapsel konstruiert. Dadurch wird eine schnelle, punktuelle Erwärmung der Oberfläche erreicht – mit minimalem Wärmemasseaufwand. Es kommt zu einer schnellen Anpassung an den Zielwert, einer Reaktionszeit von unter einer Sekunde sowie zu einerhomogenen Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1°C. Das Strahlprofil wird an den Durchmesser der Wafer sowie an die Scangeschwindigkeit angepasst, sodass die thermischen Bedingungen kontrolliert bleiben und die Eigenschaften des Fotoleiters erhalten bleiben. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls gewährleistet: Materialien, die den Anforderungen von Klasse 1–100 entsprechen, eine versiegelte Bauweise sowie keine Staubentstehung während des Dauerbetriebs.

Saphir Wafer Bearbeitungsofen

Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800

Auf der Fertigungsebene

Die 2-Zoll-Saphirwafer liegen unter der Lithografieträger, während sie auf ein Soft-Bake warten. Sie benötigen 110°C über die gesamte Oberfläche, nicht nur das, was das Thermoelement anzeigt. Alles darunter führt zu einer Drift des Fotolackprofils. Wenn Sie die Temperatur erhöhen, verbrennen Sie Ihr thermisches Budget.

Was technisch wirklich zählt

Die Heizgeräte, die wir für die Verarbeitung von Saphirwafern verwenden, sind kurzwellige Infrarot (SWIR) Quarzstrahler. Sie geben Wärme direkt und schnell ab, mit sehr geringer thermischer Trägheit. Die Wafer-Ebene hält eine Uniformität von ±0,1°C über dem Chuck, und die Wiederholbarkeit von Schicht zu Schicht bleibt innerhalb von ±0,2°C. Die Plattform ist kompatibel mit Reinräumen der Klasse 1–100, und die Teile sind so gewählt, dass die Partikelerzeugung während des stationären Betriebs bei null bleibt. Sie erhalten 24/7 Zuverlässigkeit ohne ungeplante Ausfallzeiten, und die Fotolack-Bake-Profile sind ausreichend wiederholbar, um die Linienbreitenkontrolle stabil zu halten.