http://ir-glass-heat.com/de/tags/unterst%C3%BCtzung/ Recent content in Unterstützung on Infrared Glass Heating Technology Hugo de Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800 http://ir-glass-heat.com/de/posts/photoresist-stripping-support-heater/ Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800 http://ir-glass-heat.com/de/posts/photoresist-stripping-support-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Unterstützungsheizung für Fotolackentfernung"></p> <p>Auf der Lithografie-Ebene führt ein Ausfall des Support-Heizers während des Photoresist-Abtrags zu einem vollständigen Stillstand der Linie. Wafer stauen sich mit Rückständen, <a href="https://o-yate.com">Ausschuss</a> <a href="https://goldisgood.com">steigt</a>, und die Produktionsplanung gerät in Schwierigkeiten. Es wird eine Temperaturregelung benötigt, die keine Probleme bereitet.</p> <p><strong>Technisch relevante Aspekte</strong><br> Unsere Support-Heizer für den Photoresist-Abtrag halten die Wafer-Temperatur im aktiven Bereich mit einer Gleichmäßigkeit von ±0,1°C und gewährleisten eine stabile Sollwertführung während des Bake- und Strip-Sequenzablaufs. Quarzelemente und kontrollierte kurzwellige Infrarotstrahlung erwärmen ausschließlich das Ziel, wodurch keine thermische Beeinflussung der Kammerkomponenten erfolgt.<br> Die Baugruppe ist für Reinraumklasse 1–100 ausgelegt, verwendet Materialien mit geringer Ausgasung und eine Oberflächenbearbeitung, die die Partikelanzahl konstant hält. Im Mehrschichtbetrieb ist eine 24/7-Verfügbarkeit ohne ungeplante Ausfallzeiten gewährleistet, ebenso reproduzierbare Temperaturprofile, die kritische Dimensionen innerhalb der Spezifikation halten.</p>