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		<title>Saphir on Infrared Glass Heating Technology</title>
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				<title>Saphir Wafer Bearbeitungsofen</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/de/posts/sapphire-wafer-processing-heater/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Saphir Wafer Bearbeitungsofen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;auf-der-fertigungsebene&#34;&gt;Auf der Fertigungsebene&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Die 2-Zoll-Saphirwafer liegen unter der Lithografieträger, während sie auf ein Soft-Bake warten. Sie benötigen 110°C über die gesamte Oberfläche, nicht nur das, was das Thermoelement anzeigt. Alles darunter führt zu einer Drift des Fotolackprofils. Wenn Sie die Temperatur erhöhen, verbrennen Sie Ihr thermisches Budget.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;was-technisch-wirklich-zählt&#34;&gt;Was technisch wirklich zählt&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Die Heizgeräte, die wir für die Verarbeitung von Saphirwafern verwenden, sind kurzwellige Infrarot (SWIR) Quarzstrahler. Sie geben Wärme direkt und schnell ab, mit sehr geringer thermischer Trägheit. Die Wafer-Ebene hält eine Uniformität von ±0,1°C über dem Chuck, und die Wiederholbarkeit von Schicht zu Schicht bleibt innerhalb von ±0,2°C.&#xA;Die Plattform ist kompatibel mit &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Reinr&lt;/a&gt;äumen der Klasse 1–100, und die Teile sind so gewählt, dass die Partikelerzeugung während des stationären Betriebs bei null bleibt. Sie erhalten 24/7 Zuverlässigkeit ohne ungeplante Ausfallzeiten, und die Fotolack-Bake-Profile sind ausreichend wiederholbar, um die Linienbreitenkontrolle stabil zu halten.&lt;/p&gt;</description>
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