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		<title>Präzision on Infrared Glass Heating Technology</title>
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				<title>Präziser IR Sensor für Wafern</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/de/posts/reducing-chamber-wall-heat-in-semiconductor-wafer-processing-via-directional-ir-heating/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Präziser IR Sensor für Wafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Hören Sie auf, Energie in den Schächten der Wafer zu verschwenden&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Das Problem bei den meisten Infrarotlampen ist, dass sie Wärme in alle Richtungen abgeben. Wenn man einen Halbleiterwafer erwärmt, möchte man, dass die Energie direkt auf das Substrat trifft. Man möchte auf keinen Fall, dass die Energie in die Innenwände der Maschine eindringt – schließlich kostet diese Maschine ein Vermögen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wenn die Ausrüstung wie ein riesiger Wärmeableiter funktioniert, wird die Situation unübersichtlich. Man verschwendet Energie, und der Rahmen der Maschine dehnt sich aufgrund der Hitze aus. Das ist ein Problem, das man wirklich vermeiden sollte.&lt;/p&gt;</description>
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