Photorezist Weichbrennlampe

Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800

Auf dem Lithografieboden zeigt sich eine geringe Temperaturschwankung während des Trocknungsprozesses nicht als deutlicher Fehler an. Stattdessen treten Variationen in der Linienbreite auf, Lösungsmittel bleiben im Photoresist zurück – und es entstehen Beschädigungen, die erst Stunden später erkennbar werden. Was man braucht, ist eine Lampe, die die thermischen Bedingungen im Photoresist genau so hält, wie es in den Vorgaben vorgesehen ist – Cycle für Cycle.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Infrarotstrahler mit einem spektralen Ausgangssignal, das dafür sorgt, dass das Licht schnell und gleichmäßig in den Photoresist eindringt. Dadurch entsteht keine Temperaturunterschiede zwischen der Oberfläche und der Unterseite des Films. Die Homogenität auf Waferebene liegt bei ±0,1°C innerhalb der Trockenzone – das führt wiederum zu einer konstanten Viskosität sowie einem einheitlichen Beschichtungsverhalten. Das System funktioniert kontinuierlich, ohne dass Partikel entstehen – es ist somit für Reinräume von Klasse 1 bis Klasse 100 geeignet. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, mit einer Intensitätsänderung von weniger als 5%. Zudem wiederholt sich das thermische Profil von Charge zu Charge.

Unterstützungsheizung für Fotolackentfernung

Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800

Auf der Lithografie-Ebene führt ein Ausfall des Support-Heizers während des Photoresist-Abtrags zu einem vollständigen Stillstand der Linie. Wafer stauen sich mit Rückständen, Ausschuss steigt, und die Produktionsplanung gerät in Schwierigkeiten. Es wird eine Temperaturregelung benötigt, die keine Probleme bereitet.

Technisch relevante Aspekte
Unsere Support-Heizer für den Photoresist-Abtrag halten die Wafer-Temperatur im aktiven Bereich mit einer Gleichmäßigkeit von ±0,1°C und gewährleisten eine stabile Sollwertführung während des Bake- und Strip-Sequenzablaufs. Quarzelemente und kontrollierte kurzwellige Infrarotstrahlung erwärmen ausschließlich das Ziel, wodurch keine thermische Beeinflussung der Kammerkomponenten erfolgt.
Die Baugruppe ist für Reinraumklasse 1–100 ausgelegt, verwendet Materialien mit geringer Ausgasung und eine Oberflächenbearbeitung, die die Partikelanzahl konstant hält. Im Mehrschichtbetrieb ist eine 24/7-Verfügbarkeit ohne ungeplante Ausfallzeiten gewährleistet, ebenso reproduzierbare Temperaturprofile, die kritische Dimensionen innerhalb der Spezifikation halten.

Fotolack on Infrared Glass Heating Technology

Photorezist Weichbrennlampe

Unterstützungsheizung für Fotolackentfernung