Photorezist Weichbrennlampe
Auf dem Lithografieboden zeigt sich eine geringe Temperaturschwankung während des Trocknungsprozesses nicht als deutlicher Fehler an. Stattdessen...
Unterstützungsheizung für Fotolackentfernung
Auf der Lithografie-Ebene führt ein Ausfall des Support-Heizers während des Photoresist-Abtrags zu einem vollständigen Stillstand der Linie. Wafer...