http://ir-glass-heat.com/de/tags/feuchtigkeit/ Recent content in Feuchtigkeit on Infrared Glass Heating Technology Hugo de Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800 http://ir-glass-heat.com/de/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800 http://ir-glass-heat.com/de/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit aus Wafern"></p> <p>Auf der Fertigungsbühne ist die Feuchtigkeit, die nach dem Reinigen zurückbleibt, kein bloßes Ärgernis. Sie dringt während des Weichbrennvorgangs in den Fotoleiter ein, verändert dabei die wichtigen Abmessungen und führt somit zu sinkender Produktivität. Die Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit auf den Wafern bekämpft dieses Problem direkt – sie entfernt die Oberflächenfeuchtigkeit, bevor der Fotoleiter beeinträchtigt wird.</p> <p><strong>Was wirklich wichtig ist</strong><br> Wir haben diese Lampe mit kurzwelligen Halogenemittern in einer Quarzkapsel konstruiert. Dadurch wird eine schnelle, punktuelle Erwärmung der Oberfläche erreicht – mit minimalem Wärmemasseaufwand. Es kommt zu einer schnellen Anpassung an den Zielwert, einer Reaktionszeit von unter einer Sekunde sowie zu einerhomogenen Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1°C. Das Strahlprofil wird an den Durchmesser der Wafer sowie an die Scangeschwindigkeit angepasst, sodass die thermischen Bedingungen kontrolliert bleiben und die Eigenschaften des Fotoleiters erhalten bleiben. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls gewährleistet: Materialien, die den Anforderungen von Klasse 1–100 entsprechen, eine versiegelte Bauweise sowie keine Staubentstehung während des Dauerbetriebs.</p>