Entfernung on Infrared Glass Heating Technology

Abstand zwischen Terrassenheizer und Decke

Sat, 18 Jul 2026 04:06:15 +0800

Hören Sie auf, gegen den Schimmel im Badezimmer zu kämpfen!
Die meisten Menschen betrachten Heizlampen für das Badezimmer einfach als Mittel, um nicht zu frieren, während man sich abtrocknet. Doch wir haben sie anders betrachtet. Wir wollten etwas entwickeln, das nicht nur wärmt, sondern auch verhindert, dass Schimmel entsteht.

Es geht nicht nur um warme Luft
Herkömmliche Heizgeräte versuchen, die Luft um einen herum zu erwärmen. Das ist jedoch langsam – außerdem entstehen dadurch kühle Stellen. Und genau an diesen kühlen, feuchten Stellen mag Schimmel gerne wachsen.

Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit aus Wafern

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Auf der Fertigungsbühne ist die Feuchtigkeit, die nach dem Reinigen zurückbleibt, kein bloßes Ärgernis. Sie dringt während des Weichbrennvorgangs in den Fotoleiter ein, verändert dabei die wichtigen Abmessungen und führt somit zu sinkender Produktivität. Die Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit auf den Wafern bekämpft dieses Problem direkt – sie entfernt die Oberflächenfeuchtigkeit, bevor der Fotoleiter beeinträchtigt wird.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben diese Lampe mit kurzwelligen Halogenemittern in einer Quarzkapsel konstruiert. Dadurch wird eine schnelle, punktuelle Erwärmung der Oberfläche erreicht – mit minimalem Wärmemasseaufwand. Es kommt zu einer schnellen Anpassung an den Zielwert, einer Reaktionszeit von unter einer Sekunde sowie zu einerhomogenen Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1°C. Das Strahlprofil wird an den Durchmesser der Wafer sowie an die Scangeschwindigkeit angepasst, sodass die thermischen Bedingungen kontrolliert bleiben und die Eigenschaften des Fotoleiters erhalten bleiben. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls gewährleistet: Materialien, die den Anforderungen von Klasse 1–100 entsprechen, eine versiegelte Bauweise sowie keine Staubentstehung während des Dauerbetriebs.

Sicherheitsabstand bei der Waferheizung

Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800

Im Fertigungsraum ist die Erhitzung der Fotolackschicht eine Prozessschritt, bei dem genaue Einhaltung bestimmter Temperaturwerte unerlässlich ist. Eine Temperaturschwankung von 10 ms oder eine Abweichung von 1 mm zwischen Heizer und Wafer führen zu Problemen wie Verformungen des Musters oder zu Ausschusswaren. Die Sicherheitsentfernung um den Wafer herum ist keine „Komfortzone“ – sie ist vielmehr die Grenze, die dafür sorgt, dass die Qualität der Produkte sowie die Integrität der Ausrüstung erhalten bleiben.

So haben wir das Heizmodul konstruiert: Es wird in einer definierten Sicherheitsentfernung angebracht, sodass die Heizzone von empfindlichen optischen Komponenten sowie vom Wafergetriebe getrennt bleibt – gleichzeitig wird jedoch eine effiziente Wärmeübertragung gewährleistet. Das System hält eine Temperaturkonstanz von ±0,1°C über die gesamte Fläche des Wafers aufrecht – dadurch bleiben auch die Anforderungen bezüglich der Erhitzungszeit eingehalten.