<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wafle on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/cs/tags/wafle/</link>
		<description>Recent content in Wafle on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/cs/tags/wafle/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sledujte, jak se z čisticí stanice odtrhuje destička. Nesmí tam být žádné stopy vody. Fotorezistent nemůže snést náhlé změny teploty. Pokud sušič nedokáže dosáhnout správné teplotní hodnoty, začíná klesat kvalita výrobku – je potřeba provést další &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;opravy&lt;/a&gt;, další série produktů musí být zahozeny.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co se skrývá pod povrchem, z technického hlediska&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Vyráběli jsme ohřívač pro sušení destiček MEMS senzorů na základě rychle reagujících, vhodných pro použití v čistočkách, ohřívacích prvků a konstrukce na bázi křemíku. Tento ohřívač udržuje rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C v celé aktivní oblasti, takže procesy měkkého a tvrdého sušení probíhají přesně podle specifikací.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Lampa na odstranění vlhkosti z waferů</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampa na odstranění vlhkosti z waferů&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V provozu výroby není vlhkost zbylá po čištění jen nepříjemností. Vstřebává se do fotorezistu během procesu zahřívání, mění tak kritické rozměry a vede ke snížení kvality výrobku. Lampa na odstranění vlhkosti z destiček řeší tento problém přímo – odstraňuje povrchovou vlhkost ještě předtím, než dojde k poškození fotorezistu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je důležité uvnitř lampy&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampu jsme navrhli s využitím krátkovlnných halogenových zdrojů světla umístěných v křemenném obalu. Cílem je rychlé ohřev povrchu s minimální tepelnou hmotností. Dokáže rychle dosáhnout požadované teploty, reakce trvá méně než sekundu a rovnoměrnost teploty na povrchu destičky je v rozmezí ±0,1 °C. Profil paprsku je přizpůsoben průměru destičky a rychlosti skenování, takže tepelné podmínky zůstávají pod kontrolou a chemické vlastnosti fotorezistu zůstávají zachovány. Lampa je kompatibilní s čistými prostředími – používají se &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;materi&lt;/a&gt;ály odpovídající normám tříd 1–100, uzavřený obal a během kontinuálního provozu nedochází k tvorbě částic.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
