http://ir-glass-heat.com/cs/tags/fotorezistent/ Recent content in Fotorezistent on Infrared Glass Heating Technology Hugo cs Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/cs/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/cs/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lampa na měkké vypalování fotorezisty"></p> <p>Na litografické ploše se mírné výkyvy teploty během procesu vypalování <a href="https://henruite.com">neprojevuj</a>í jako závažné problémy. Projevují se spíše jako variace v šířce linií, přítomnost rozpouštědel v fotorezistu a odpadní <a href="https://o-yate.com">materi</a>ál, který se objevuje až po několika hodinách. Potřebujete tedy lampu, která udrží teplotu fotorezistu přesně na úrovni stanovené v receptuře – cyklus za cyklem.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Používáme emitory v oblasti blízké infračerveného světla s spektrálním výstupem navrženým tak, aby rychle a rovnoměrně pů<a href="https://o-yate.net">sobil</a> na fotorezist. Díky tomu nedochází k rozdílům teploty mezi povrchem a spodní částí fólie. Jednotnost teploty na úrovni wafru dosahuje ±0,1 °C v celé oblasti vypalování, což přímo vede k konzistentní viskozitě a správnému chování povlaku. Systém funguje nepřetržitě bez vzniku jakýchkoliv částic – je kompatibilní s čistými místnostmi od třídy 1 do třídy 100. Výstupní intenzita zůstává stabilní po dobu více než 5 000 hodin, s odchylkami pod 5 %. Termální profil se také opakuje u každé série výroby.</p> http://ir-glass-heat.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800 http://ir-glass-heat.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Modul pro sušení fotorezistentu infračerveným zářením"></p> <p>Na litografické desce nepředstavuje odchylka o půl stupně při procesu zahřívání „toleranci“. Jedná se o znehodnocený polovodičový čip. Sušení fotorezisty závisí na termální kontrole – infračervený modul je tedy klíčovým prvkem pro dosažení požadovaných výsledků, nebo naopak jejich ztrátu.</p> <p><strong>Co je opravdu důležité v tomto procesu</strong> Používáme infračervený modul na sušení fotorezisty, který udržuje termální rovnoměrnost na úrovni ±0,1 °C mezi jednotlivými čipy. Díky tomu jsou profilové údaje stabilní v každé várce. Volba emitoru je promyšlená – používáme blízké infračervené záření, protože umožňuje rychlou reakci s přesnou kontrolou spektra. To eliminuje <a href="https://henruite.com">probl</a>émy spojené s termálními odchylkami. Systém je určen pro čisté prostory třídy 1–100 a je navržen tak, aby nevytvářel žádné částice – to je ověřeno pomocí monitorování částic na místě. Má být provozován 24/7 bez neplánovaných přestávek. Časový rámec servisu odpovídá změnám v výrobě.</p>