Op de lithofloer mag er geen verschil van een halve graad optreden tijdens het drogen van de photoresist. Dat is geen ‘tolerantie’, maar betekent dat de wafer niet bruikbaar is. Het drogen van de photoresist hangt af van de thermische omstandigheden; het infraroodmodule is hierbij cruciaal voor het bereiken van een goede kwaliteit.
Wat er echt toe doet Wij gebruiken een infraroodmodule voor het drogen van de photoresist. Hierdoor blijft de thermische uniformiteit op het niveau van de wafer binnen ±0,1°C. Bovendien zorgt deze module ervoor dat de droogtijden consistent blijven, lot na lot. De keuze voor infraroodstraling is bewust gemaakt: het zorgt voor een snelle en nauwkeurige reactie, met goed controle over het spectrum. Dit voorkomt problemen als thermische vertragingen of oververhitting. Het systeem is ontworpen voor schoonruimtes van klasse 1–100, en het zorgt voor nul partikelvorming, wat wordt gecontroleerd met behulp van in-situ monitoring. Het systeem kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstand. De service-intervallen zijn zo gepland dat ze passen bij de wisseling van producten.
Waarom dit belangrijk is bij het verwerken van photoresist Photoresist vereist nauwkeurige behandeling. Tijdens het zacht drogen wordt het oplosmiddel verwijderd. Tijdens het hard drogen wordt de hechting en de stabiliteit van de afmetingen van de wafer bevorderd. Met deze module kan men de thermische omstandigheden reguleren, zodat er minder oplosmiddelen achterblijven en er minder herwerkingswerk nodig is. Hierdoor kan men de afmetingen van de wafer beter controleren, zijn er minder defecten, en kan men de productietijd beter plannen. Ook de energiekosten dalen: omdat infraroodstraling snel werkt, kan men de droogtijd verkorten zonder dat dit negatieve gevolgen heeft. Dit leidt tot lagere kosten per wafer.
Wat er nodig is bij de installatie Het belangrijkste bij de installatie is dat de afmetingen van de ovenkamer overeenkomen met die van de module. Ook moet de spanning en de connectoren compatibel zijn – 240 V is gebruikelijk voor de hoge stroombehoeften. De module heeft een schone, droge koeling nodig, evenals een montageinterface die geschikt is voor gebruik in een schoonruimte. De inrichting duurt niet lang, maar is wel belangrijk: men moet de emissiviteit en de scan snelheid aanpassen aan de behoeften van de photoresistlaag. Eenmaal ingesteld, blijft het proces stabiel. Maar vergeet niet: de eerste instellingen zijn geen ‘plug-and-play’-oplossing.