Berhenti Menunggu Proses Pemanasan dengan Ketuhar Konvensional: Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik daripada Pemanasan Udara Dalam Kilang Semikonduktor
Jika anda masih menggunakan sistem pemanasan udara untuk memanaskan wafer anda, sebenarnya anda sedang membuang masa yang sepatutnya tidak perlu dibazirkan.
Fikirkan bagaimana cara pemanasan udara berfungsi. Anda memanaskan udara terlebih dahulu, kemudian menunggu udara tersebut memanaskan permukaan wafer. Proses ini sangat lambat. Ada masa menunggu yang membosankan. Dalam kilang semikonduktor, masa menunggu ini merupakan pembaziran wang yang besar.
Mengelakkan Penggunaan Sistem Pemanasan Tradisional
Pemanasan IR berfungsi secara berbeza. Daripada memanaskan ruangan atau udara, ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk menghantar tenaga terus ke permukaan wafer.
Ia sama seperti perbezaan antara menggunakan pemanas untuk memanaskan bilik dan berada di bawah sinar matahari. Anda tidak perlu menunggu bilik mencapai suhu tertentu. Cukup hidupkan suis, dan foton akan memanaskan permukaan wafer.
Kita boleh ubah masa pemanasan dari minit menjadi saat sahaja. Mungkin beberapa saat nampaknya tidak banyak, tetapi cuba kira sendiri. Jika anda dapat memendekkan masa pemanasan sebanyak 30 saat untuk setiap siklus pada 1,000 wafer, anda akan mendapat lebih banyak masa pengeluaran setiap syif. Itu merupakan keuntungan yang besar.
Penjimatan Ruang dan Tenaga
Sistem pemanasan udara memerlukan banyak ruang, termasuk kipas, saluran udara, dan kotak insulasi yang digunakan untuk mengelakkan haba daripada tersebar ke mana-mana. Semua ini memakan ruang yang banyak.
Sebaliknya, lampu IR sangat kecil. Ia boleh diletakkan terus di dalam lini pengeluaran. Selain itu, ia juga lebih mesra alam. Anda tidak perlu membuang tenaga untuk memanaskan seluruh ruangan mesin – cukup panaskan hanya permukaan wafer sahaja.
Cabaran yang Perlu Dihadapi
Saya tidak akan katakan bahawa ia merupakan penyelesaian yang sempurna, kerana ia bukan begitu. Pemanasan IR memang cepat, tetapi ia bersifat terarah. Udara panas akan menyelubungi permukaan wafer seperti selimut. Sebaliknya, IR lebih mirip cahaya suluh. Jika wafer sedikit miring atau lampu tidak tepat posisinya, maka akan ada kawasan yang tidak dipanaskan dengan baik.
Anda perlu memastikan reflektor dan sensor berfungsi dengan baik agar haba dapat diedarkan secara merata ke seluruh permukaan wafer. Ingatlah, kerana haba diberikan dengan cepat, anda memerlukan sistem penyejukan yang efektif. Jika anda tidak dapat mengatasi lonjakan suhu ini, permukaan wafer akan rosak.
Tetapi jika penyesuaian dilakukan dengan betul? Ia merupakan penyelesaian yang sangat baik.